纳微+东纳+专利+纳米技术文献方法学通用
化学发光磁微粒技术 — 超顺磁性Fe3O4纳米粒子/表面修饰/链霉亲和素-SA磁珠/磁分离
发布日期：未知
文档来源：纳微+东纳+专利+纳米技术文献
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概述
化学发光免疫分析磁微粒技术全解: 一、核心结构:磁性纳米粒子(Fe3O4内核/10~20nm磁核)→表面包被层(聚苯乙烯PS/二氧化硅SiO2/葡聚糖)→功能基团引入(羧基-COOH/氨基-NH2/甲苯磺酰基Tosyl)→共价偶联链霉亲和素→SA磁珠(1~3μm粒径)。 二、超顺磁性:外加磁场时迅速聚集(磁分离)/撤去磁场后磁性消失重新分散(避免永久团聚)。磁响应:≥0.3T磁场中分离约1分钟/残留率<0.1%。 三、表面功能化修饰:羧基(-COOH):EDC/NHS活化后偶联蛋白氨基。氨基(-NH2):戊二醛交联蛋白羧基。甲苯磺酰基(Tosyl):可直接共价结合抗体无需活化试剂。环氧基:温和...